所謂的X射線檢測(cè)機(jī)是焦點(diǎn)尺寸可以達(dá)到幾個(gè)微米，并且能夠在0～225kV或更高恒電壓模式下，以一定的功率(通常最高為320W)連續(xù)工作的X射線機(jī)。X射線檢測(cè)機(jī)的焦點(diǎn)尺寸通常可以連續(xù)可調(diào)，從幾微米直到0.2毫米或更高。

　　與常規(guī)X射線管相同，X射線檢測(cè)管的陽(yáng)極也是用循環(huán)油或水來(lái)冷卻。與常規(guī)X射線機(jī)不同的是，用于無(wú)損檢測(cè)的X射線檢測(cè)管是用真空泵來(lái)維持X射線管內(nèi)的真空度(約為10-7)。

　　X射線檢測(cè)管可以很方便的打開(kāi)(即開(kāi)放式或稱為開(kāi)管)，用來(lái)更換不同的靶材以產(chǎn)生不同的X射線頻譜;更換不同形狀及大小的X射線窗口;以及更換陽(yáng)極的類型…如換上各種直徑和長(zhǎng)度的棒陽(yáng)極，以滿足不同檢測(cè)任務(wù)的需要。

　　這些陽(yáng)極棒的長(zhǎng)度可達(dá)1500毫米，直徑可從18毫米一直小到4毫米。使用如此小的棒陽(yáng)極，我們可以用單壁內(nèi)透照方式，以未有的缺陷檢測(cè)靈敏度進(jìn)行射線檢測(cè)。

　　需要考慮的是X射線束視場(chǎng)直徑或稱錐束角。進(jìn)行X射線檢測(cè)檢測(cè)，當(dāng)焦距很近時(shí)，錐束角或視場(chǎng)范圍非常重要。例如，25°錐角的X射線檢測(cè)機(jī)的曝光次數(shù)要小于15°錐角的X射線檢測(cè)機(jī)在檢測(cè)相同范圍時(shí)的曝光次數(shù)。

　　另一個(gè)需要考慮的是焦點(diǎn)到X射線管窗口外表面的距離，它決定了被檢樣品到焦點(diǎn)的最小距離。這一參數(shù)的重要性在于它決定了一個(gè)微焦點(diǎn)系統(tǒng)可能達(dá)到的最大放大倍數(shù)。

　　由于防護(hù)設(shè)施空間的局限以及射線的衰減與距離的平方成反比(I/R2)，我們無(wú)法隨意拉長(zhǎng)膠片或探測(cè)器到射線源的距離以增大放大倍數(shù)。

　　在進(jìn)行X射線檢測(cè)檢測(cè)時(shí)有一個(gè)與常規(guī)X射線檢測(cè)很大的不同：我們通常不需要考慮圖像半影的大小，即通常不考慮幾何不清晰度的影響。

　　原因是當(dāng)焦點(diǎn)尺寸足夠小時(shí)，半影可以忽略不計(jì)。因此我們可以在X射線視場(chǎng)可接受的情況下，盡可能減小被檢樣品到焦點(diǎn)的距離。